上海光機所論文被評爲第三屆國際先進光刻技術研討會最佳學術論文

文章來源:上海光學精密機械研究所  |  發布時間:2019-11-03  |  【打印】 【關閉

  

超強激光科學卓越創新簡報

(第五十六期)

2019年11月3日

上海光機所論文被評爲第三屆國際先進光刻技術研討會最佳學術論文

  1018日,由集成电路产业技术创新联盟和中国光学学会主办,中國科學院微电子研究所、南京市浦口高新区和南京市浦口区科学技术局承办的第三届國際先進光刻技術研討會在南京市成功举办。 

  大会主席、集成电路产业技术创新联盟理事长、科技部原副部长曹健林,国家科技重大专项电子信息领域监督评估组组长、国家外国专家局原局长马俊如,大会副主席、中國科學院微电子研究所所长、国家02科技重大專項技術總師葉甜春等分別致辭。大會秘書長、中科院微電子研究所計算光刻研發中心主任韋亞一研究員主持開幕式。來自中國、美國、德國、日本等世界各地衆多名企、廠商、科研機構、高校的共計400余名技術專家和學者參加了本屆大會。 

  我所王向朝研究員帶領團隊參加了會議並擔任國際咨詢委員會委員、大會session chair。上海光機所在本次會議上共發表5篇學術論文,其中,成維、李思坤*、王向朝*、張子男的論文"Profile reconstruction method for multilayer defect in Extreme Ultraviolet Lithography"獲得“最佳論文獎”。 

  國際先進光刻技術研討會www.iwaps.org是國內首個高端光刻技術研討會,已連續舉辦三屆。本屆大會延續了往屆的高規格和高水准,已成爲共享國內外先進光刻技術研發成果,促進我國集成電路制造技術研發與應用,開展合作與交流的高端峰會。報告內容總結等更多會議情況請參閱“光刻人的世界”微信公衆號:https://mp.weixin.qq.com/s/35-U-HNUWz_q33-zokOXew以及會議官方網站.(信息光學與光電技術實驗室供稿) 

上海光機所參會人員合影

頒獎現場